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箱式气氛炉技术特征

更新时间:2019-08-20      浏览次数:825

箱式气氛炉技术特征:
  1.采用特殊的高温红外测量技术,温度控制准确,误差小。
  2,采用特殊的废气处理装置,环保,易清洗。
  3,采用电阻加热,设定温区补偿或多区温度控制,温度均匀性好。
  4.采用科技*的超高温大电流上电技术,可在2400°C的温度下长期稳定使用。
  5,可选配脱脂系统,实现陶瓷产品脱脂和烧结的一次性处理。
  6.炉子配有的密封马弗炉。 产品生产的硅蒸汽等副产品对加热器和绝缘材料几乎没有污染。、

箱式气氛炉适用于在高压氮气氛中烧结诸如氮化硅的材料。 有利的是提高材料的烧结密度并改善材料的机械性能。 压力烧结炉具有优异的微观结构,强度和密度。 可实现连续差压脱脂,真空烧结和压力烧结工艺; 具有气氛调节功能,炉内气氛稳定,产品质量易于控制; 炉内分压控制实现恒压烧结。
 
  气氛炉可手动控制烧制过程,如手动控制温升,降温,充放电等参数,确保氮化硅的质量和数量。 为了降低劳动力成本,氮化硅反应器的用户可以使用自动烧结工艺自动生成氮化硅。

 气氛炉是于氮化硅反应烧制的真空电炉。 氮化硅烧结炉由电炉体,加热系统,升降系统,冷却系统,充放电系统和电控系统组成。 氮化硅反应器由炉内温度,充放电气体的类型和速度,炉中的比例和游离硅的量反映形成氮化硅。 氮化硅是一种具有良好性能的新型材料。 
 
  

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